Silizium-Halbleitertechnologie von Hilleringmann,  Ulrich

Silizium-Halbleitertechnologie

Grundlagen mikroelektronischer Integrationstechnik

Ein Lehrbuch zu den grundlegenden Verfahren der Mikroelektronik und Integrationstechniken. Grundlage der mikroelektronischen Integrationstechnik ist die Silizium-Halbleitertechnologie. Sie setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgrößen bis zu wenigen 10 nm gleichmäßig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, Ätzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden – ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung – aus Sicht des Anwenders erläutert. Das Buch behandelt neben den Grundlagen auch die technische Durchführung der Einzelprozesse zur Integrationstechnik.
In der 6. Auflage …

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Die Publikation Silizium-Halbleitertechnologie - Grundlagen mikroelektronischer Integrationstechnik von ist bei Springer Fachmedien Wiesbaden GmbH erschienen. Die Publikation ist mit folgenden Schlagwörtern verschlagwortet: 10 nm, Anforderung, Anwender, Atomic, Ätzschritt, Ätztechnologie, Ausstattungen, bipolar, Bipolar-Technologie, Bipolarschaltung, Bipolartechnik, Chip, Chipherstellung, Depositionsverfahren, DEVELOPMENT, Dielektrika, Dielektrikum, dotiert, Dotiertechnik, Dotiertechniken, Dotierung, Dotierungstechnik, Dotierungstechniken, Dotierungstechnologie, Dotierungstechnologien, Einzelprozess, elektronisch, Entwicklung, Halbleiter, Halbleitertechnologie, Hardware, Herstellung, High-k-Dielektrikum, Höchstintegration, Implantation, Integration, Integrationstechniken, Integrationstechniker, integriert, Layer, Lithografie, Messtechnik, Metallisierung, Mikro, Mikroelektronik, mikroelektronisch, Montage, Montagetechnik, Montagetechnologie, MOS, MOS-Schaltung, MOS-Technologie, MOS-Technologien, Nanometer, Naturwissenschaft, Optische Lithografie, Oxidationen, PECVD, PECVD-Abscheidung, Physik, Physiker, Prozess, Prozesse, pruefung, R&D, reproduzierbar, Rohsilizium, Schaltung, Schaltungen, Sensoren, Sensorik, Silizium, Silizium-Halbleitertechnologie, Siliziumscheibe, Siliziumscheiben, Struktur, Strukturgröße, Systeme, technisch, Technologie, Verfahren. Weitere Bücher, Themenseiten, Autoren und Verlage finden Sie hier: https://buch-findr.de/sitemap_index.xml . Auf Buch FindR finden Sie eine umfassendsten Bücher und Publikationlisten im Internet. Sie können die Bücher und Publikationen direkt bestellen. Ferner bieten wir ein umfassendes Verzeichnis aller Verlagsanschriften inkl. Email und Telefonnummer und Adressen. Die Publikation kostet in Deutschland 35.96 EUR und in Österreich 35.96 EUR Für Informationen zum Angebot von Buch FindR nehmen Sie gerne mit uns Kontakt auf!