Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse für Anwendungen in der Halbleitertechnologie. von Altmannshofer, Stephan

Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse für Anwendungen in der Halbleitertechnologie.

In dieser Arbeit werden verschiedene Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse untersucht. Es werden Ätz- und Abscheideprozesse erforscht, die in der Halbleitertechnologie nötig sind. Dabei wird darauf geachtet, dass die Prozesstemperatur sehr gering ist. Durch die in der Arbeit untersuchten plasmaunterstützten Prozesse, kann eine epitaktische Siliziumschicht bereits bei 450 °C abgeschieden werden.

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Die Publikation Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse für Anwendungen in der Halbleitertechnologie. von ist bei Fraunhofer Verlag erschienen. Die Publikation ist mit folgenden Schlagwörtern verschlagwortet: Chemiker, electronic devices & materials, Elektroingenieur, Elektroingenieure, Epitaxie, Fraunhofer EMFT, Halbleitertechnologie, Mikrowellenplasma, Nanotechnologe, Nanotechnologen, PECVD, Physiker, plasma physics, Solid State Chemistry, Spektralellipsometer. Weitere Bücher, Themenseiten, Autoren und Verlage finden Sie hier: https://buch-findr.de/sitemap_index.xml . Auf Buch FindR finden Sie eine umfassendsten Bücher und Publikationlisten im Internet. Sie können die Bücher und Publikationen direkt bestellen. Ferner bieten wir ein umfassendes Verzeichnis aller Verlagsanschriften inkl. Email und Telefonnummer und Adressen. Die Publikation kostet in Deutschland 87 EUR und in Österreich 89.5 EUR Für Informationen zum Angebot von Buch FindR nehmen Sie gerne mit uns Kontakt auf!