Gebrauchsmustergesetz

Gebrauchsmustergesetz von Hauck,  Ronny, Loth,  Hans-Friedrich, Pantze,  Ricarda, Stock,  Johanna
Zum Werk Das seit 125 Jahren bestehende Gebrauchsmuster hat seine Daseinsberechtigung mittlerweile nicht nur bewiesen, sondern es hat sich vom "kleinen Bruder" des Patentrechts zum veritablen Immaterialgüterrecht entwickelt. Gegenüber dem oft starren Patentrecht bietet das flexible Gebrauchsmusterrecht anwendungsstrategische Vorteile und ist damit unverzichtbarer Bestandteil einer wirtschaftlich sinnvollen IP-Strategie. Die Autoren behandeln das deutsche Gebrauchsmustergesetz (GebrMG) und erläutern dessen Bestimmungen und strategische Vorteile konzentriert, kompakt und verständlich. Dabei wird die einschlägige Rechtsprechung des BGH, des BPatG und der Instanzgerichte ebenso ausgewertet wie die relevante Entscheidungspraxis des EPA und des EuGH. Wegen der Systemverwandtschaft des Patent- und Gebrauchsmusterrechts werden patentrechtliche Grundsätze behandelt, soweit sie für die Anwendung des GebrMG von Interesse sind. Seine Einbettung in internationale Verträge und Schutzsysteme (EPÜ, Einheitspatent, PCT, TRIPs) wird ebenfalls dargestellt. Der Kommentar enthält im Anhang die für die Praxis wichtigen Vorschriften, wie beispielsweise die Gebrauchsmusterverordnung, die Rechercherichtlinie, die Prüfungsrichtlinien, die Klassifizierungs- und die Hinterlegungsverordnung. Vorteile auf einen Blick - praxisorientierte Kommentierung der Vorschriften zum Gebrauchsmusterrecht mit europäischen Bezügen - ausgewiesene Experten aus Praxis und Wissenschaft - aktuell, verständlich und prägnant Zur Neuauflage Die Neuauflage enthält: - größtenteils vollständige Neubearbeitungen - praxisrelevante Fallgestaltungen und Anwendungsbeispiele - die Adaptierung neuer patentrechtlicher Entwicklung im Gebrauchsmusterrecht - die neuesten Verordnungen und Richtlinien des DPMA Zielgruppe Rechtsanwälte, Patentanwälte und Patentanwaltskandidaten, patentamtliche Prüfer, Richter, Erfinder, Unternehmer, Entwicklungs- und Forschungsabteilungen sowie Rechts- und Patentabteilungen von Wirtschaftsunternehmen, Wirtschaftsjuristen und Verbände. Herausgeber: Dr. Hans-Friedrich Loth, Rechtanwalt, München Weitere Autoren: Johanna Stock, Rechtsanwältin, München Dr. Ricarda Pantze, Rechtsanwältin, München PD Dr. Ronny Hauck, München
Aktualisiert: 2023-04-04
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Patentrechtskommentar

Patentrechtskommentar von Ahrens,  Thomas, Beckmann,  Christian, Bodewig,  Theo, Einsele,  Rolf W., Eisenrauch,  Anton, Ensthaler,  Jürgen, Feuerlein,  Friedrich, Fischer,  Karsten, Fitzner,  Uwe, Gleiter,  Hermann, Grob,  Thomas, Haertel,  Alexander, Hauck,  Ronny, Heinrich,  Peter, Herrmann,  Torbjörn, Hofmeister,  Jörg, Hössle,  Markus, Jensen,  Olaf, Kessler,  Stephan, Kiefer,  Miriam, Kircher,  Holger, Klauer,  Georg, Kubis,  Sebastian, Loth,  Hans-Friedrich, Lutz,  Raimund, Metternich,  Hans-Christian, Möhring,  Philipp, Müller,  Christoph, Münch,  Volker, Nieswand,  Martina, Pitz,  Johann, Rauch,  Joachim, Rinken,  Ingo, Schauwecker,  Marko, Schnekenbühl,  Robert, Sperlich,  Martina, Stortnik,  Hans-Joachim, Voss,  Ulrike, Wickenhöfer,  Alexander, Wilhelmi,  Rüdiger, Wilming,  Martin
Vorteile - Umfassend - International ausgerichtet - Darstellung durch Angehörige aller patentrechtlich relevanten Berufe Zum Werk Die Besonderheit des Werkes besteht darin, dass es das gesamte Patent- und Gebrauchsmusterrecht abbildet, also neben dem deutschen PatG und GebrMG vor allem den Patentzusammenarbeitsvertrag (PCT) und das Europäische Patentübereinkommen (EPÜ), letzteres ohne die internen institutionellen Vorschriften. Auch angrenzende Sondermaterien wie das Patentanwaltsrecht, das Arbeitnehmererfindungs- und Sortenschutzrecht sowie auf europäischer Ebene das Recht der ergänzenden Schutzzertifikate werden mitbehandelt. An Qualität und Praxisnähe der Darstellungen wurden hohe Anforderungen gestellt. So bietet z.B. die Vorbemerkung zu den §§ 139 ff. PatG eine Einführung zum Patentverletzungsverfahren, deren Gründlichkeit und Niveau dem einer eigenen Monographie entsprechen. Zur Neuauflage Mit dieser Neubearbeitung wird die Tradition des Patentrechtskommentars fortgesetzt, der von Georg Klauer begründet und später von Philipp Möhring herausgegeben wurde. Es handelt sich um eine vollständige Neubearbeitung, die an die Vorauflage in vorwiegend konzeptioneller Hinsicht und in manchen Grundgedanken anknüpft. Herausgeber Prof. Dr. Theo Bodewig, Humboldt-Universität Berlin, Prof. Dr. Uwe Fitzner, Rechtsanwalt, Fachanwalt für Gewerblichen Rechtsschutz, Patentanwalt, Europ. Trademark and Design Attorney in Ratingen, und Raimund Lutz, Präsident des Bundespatentgerichts, München. Dem Autorenteam aus deutschen und schweizerischen Juristen gehören Rechts- und Patentanwälte ebenso an wie Beamte des DPMA und des EPA, Richter, Hochschullehrer und andere Wissenschaftler. Zielgruppe Für Rechtsanwälte, Patentanwälte und Patentanwaltskandidaten, patentamtliche Prüfer, Richter, Erfinder, Rechts- und Patentabteilungen von Wirtschaftsunternehmen, Wissenschaftler. Die Vorauflage erschien in 2 Bänden unter "Klauer, Patentrechtskommentar".
Aktualisiert: 2023-04-04
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