Zum Werk
Das seit 125 Jahren bestehende Gebrauchsmuster hat seine Daseinsberechtigung mittlerweile nicht nur bewiesen, sondern es hat sich vom "kleinen Bruder" des Patentrechts zum veritablen Immaterialgüterrecht entwickelt. Gegenüber dem oft starren Patentrecht bietet das flexible Gebrauchsmusterrecht anwendungsstrategische Vorteile und ist damit unverzichtbarer Bestandteil einer wirtschaftlich sinnvollen IP-Strategie.
Die Autoren behandeln das deutsche Gebrauchsmustergesetz (GebrMG) und erläutern dessen Bestimmungen und strategische Vorteile konzentriert, kompakt und verständlich. Dabei wird die einschlägige Rechtsprechung des BGH, des BPatG und der Instanzgerichte ebenso ausgewertet wie die relevante Entscheidungspraxis des EPA und des EuGH.
Wegen der Systemverwandtschaft des Patent- und Gebrauchsmusterrechts werden patentrechtliche Grundsätze behandelt, soweit sie für die Anwendung des GebrMG von Interesse sind. Seine Einbettung in internationale Verträge und Schutzsysteme (EPÜ, Einheitspatent, PCT, TRIPs) wird ebenfalls dargestellt.
Der Kommentar enthält im Anhang die für die Praxis wichtigen Vorschriften, wie beispielsweise die Gebrauchsmusterverordnung, die Rechercherichtlinie, die Prüfungsrichtlinien, die Klassifizierungs- und die Hinterlegungsverordnung.
Vorteile auf einen Blick
- praxisorientierte Kommentierung der Vorschriften zum Gebrauchsmusterrecht mit europäischen Bezügen
- ausgewiesene Experten aus Praxis und Wissenschaft
- aktuell, verständlich und prägnant
Zur Neuauflage
Die Neuauflage enthält:
- größtenteils vollständige Neubearbeitungen
- praxisrelevante Fallgestaltungen und Anwendungsbeispiele
- die Adaptierung neuer patentrechtlicher Entwicklung im Gebrauchsmusterrecht
- die neuesten Verordnungen und Richtlinien des DPMA
Zielgruppe
Rechtsanwälte, Patentanwälte und Patentanwaltskandidaten, patentamtliche Prüfer, Richter, Erfinder, Unternehmer, Entwicklungs- und Forschungsabteilungen sowie Rechts- und Patentabteilungen von Wirtschaftsunternehmen, Wirtschaftsjuristen und Verbände.
Herausgeber:
Dr. Hans-Friedrich Loth, Rechtanwalt, München
Weitere Autoren:
Johanna Stock, Rechtsanwältin, München
Dr. Ricarda Pantze, Rechtsanwältin, München
PD Dr. Ronny Hauck, München
Aktualisiert: 2023-04-04
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Vorteile
- Umfassend
- International ausgerichtet
- Darstellung durch Angehörige aller patentrechtlich relevanten Berufe
Zum Werk
Die Besonderheit des Werkes besteht darin, dass es das gesamte Patent- und Gebrauchsmusterrecht abbildet, also neben dem deutschen PatG und GebrMG vor allem den Patentzusammenarbeitsvertrag (PCT) und das Europäische Patentübereinkommen (EPÜ), letzteres ohne die internen institutionellen Vorschriften. Auch angrenzende Sondermaterien wie das Patentanwaltsrecht, das Arbeitnehmererfindungs- und Sortenschutzrecht sowie auf europäischer Ebene das Recht der ergänzenden Schutzzertifikate werden mitbehandelt.
An Qualität und Praxisnähe der Darstellungen wurden hohe Anforderungen gestellt. So bietet z.B. die Vorbemerkung zu den §§ 139 ff. PatG eine Einführung zum Patentverletzungsverfahren, deren Gründlichkeit und Niveau dem einer eigenen Monographie entsprechen.
Zur Neuauflage
Mit dieser Neubearbeitung wird die Tradition des Patentrechtskommentars fortgesetzt, der von Georg Klauer begründet und später von Philipp Möhring herausgegeben wurde.
Es handelt sich um eine vollständige Neubearbeitung, die an die Vorauflage in vorwiegend konzeptioneller Hinsicht und in manchen Grundgedanken anknüpft.
Herausgeber
Prof. Dr. Theo Bodewig, Humboldt-Universität Berlin, Prof. Dr. Uwe Fitzner, Rechtsanwalt, Fachanwalt für Gewerblichen Rechtsschutz, Patentanwalt, Europ. Trademark and Design Attorney in Ratingen, und Raimund Lutz, Präsident des Bundespatentgerichts, München.
Dem Autorenteam aus deutschen und schweizerischen Juristen gehören Rechts- und Patentanwälte ebenso an wie Beamte des DPMA und des EPA, Richter, Hochschullehrer und andere Wissenschaftler.
Zielgruppe
Für Rechtsanwälte, Patentanwälte und Patentanwaltskandidaten, patentamtliche Prüfer, Richter, Erfinder, Rechts- und Patentabteilungen von Wirtschaftsunternehmen, Wissenschaftler.
Die Vorauflage erschien in 2 Bänden unter "Klauer, Patentrechtskommentar".
Aktualisiert: 2023-04-04
Autor:
Thomas Ahrens,
Christian Beckmann,
Theo Bodewig,
Rolf W. Einsele,
Anton Eisenrauch,
Jürgen Ensthaler,
Friedrich Feuerlein,
Karsten Fischer,
Uwe Fitzner,
Hermann Gleiter,
Thomas Grob,
Alexander Haertel,
Ronny Hauck,
Peter Heinrich,
Torbjörn Herrmann,
Jörg Hofmeister,
Markus Hössle,
Olaf Jensen,
Stephan Kessler,
Miriam Kiefer,
Holger Kircher,
Georg Klauer,
Sebastian Kubis,
Hans-Friedrich Loth,
Raimund Lutz,
Hans-Christian Metternich,
Philipp Möhring,
Christoph Müller,
Volker Münch,
Martina Nieswand,
Johann Pitz,
Joachim Rauch,
Ingo Rinken,
Marko Schauwecker,
Robert Schnekenbühl,
Martina Sperlich,
Hans-Joachim Stortnik,
Ulrike Voss,
Alexander Wickenhöfer,
Rüdiger Wilhelmi,
Martin Wilming
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