Patentgesetz
Gebrauchsmustergesetz, Patentkostengesetz
Claus Dietrich Asendorf, Klaus Bacher, Georg Benkard, Hermann Deichfuß, Friedrich-Wilhelm Engel, Stephan Fricke, Frank Peter Goebel, Klaus Grabinski, Reiner Hall, Stefan Kettler, Helga Kober-Dehm, Klaus-Jürgen Melullis, Julia Nobbe, Rüdiger Rogge, Annette Rupp-Swienty, Hubertus Schacht, Alfons Schäfers, Uwe Scharen, Christof Schmidt, Ina Schnurr, Walter Schramm, Hans-Detlef Schwarz, Peter Tochtermann, Eike Ullmann, Carsten Zülch
Zum Werk
Dieser Klassiker ist der führende und für die Meinungsbildung unverzichtbare patenrechtliche Kommentar – nicht nur dank seiner traditionellen Nähe zur Rechtsprechung des BGH. Bezüge insbesondere zum Europäischen Patentübereinkommen (EPÜ), zum internationalen und zum ausländischen Recht werden, wo nötig, stets hergestellt.
Vorteile auf einen BlickErläuterung durch erfahrene Praktikerinnen und PraktikerGründliche Darstellung nach deutschem KommentarstandardMitbehandlung des Gebrauchsmustergesetzes
Zur Neuauflage
Die Neuauflage berücksichtigt die aktuellen Entwicklungen in Rechtsprechung und Gesetzgebung und wird sowohl in wissenschaftlicher Hinsicht als auch in ihrem Praxisbezug höchsten Ansprüchen gerecht.
Behandelt werden etwa Fragen zur Lizenzierung standardessenzieller Patente (SEP) sowie zum Europäischen Patent mit einheitlicher Wirkung (EPeW) und dem Einheitlichen Patentgericht (EPG).
Ebenfalls enthalten sind die Änderungen aufgrund des Zweiten Gesetzes zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts, wie insbesondere die Neuregelung des patentrechtlichen Unterlassungsanspruchs.
Zielgruppe
Für Rechts- und Patentanwaltschaft, Unternehmen, Gerichte, Studium, Referendariat und sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.
